鉬合金 - 鍍膜行業
隨電子資訊行業的快速發展，鉬作為濺射靶材的應用呈直線上升。濺射靶材是獲得薄膜材的基礎，隨著薄膜科學的飛速發展和薄膜技術的不斷進步，靶材的研究也得到長足的發展。濺射靶材的應用領域包括平面顯示、半導體、磁記錄存儲、光記錄存儲、太陽能機械、汽車、玻璃、裝飾等行業。
在種類繁多的靶材中，鉬靶具有很多優異特性，因此廣泛應用在平面顯示行業、薄膜太陽能電池行業、半導體行業、醫療行業、機械加工行業以及固體潤滑等方面，表1是鉬靶的主要應用。
近年來，作為LCO(液晶顯示)、PDP(等離子顯示)等平面顯示器的電極和配線材料的鉬系合金靶越來越受到人們的關注。在TFT-LCO中，柵電極是一個關鍵部件，以前主要是用Cr/AL作為柵電極材料，隨著平面顯示器的大型化和高精度化，對材料的比阻抗要求越來越高，鉬的比阻抗和膜應力僅為鉻的1/2，同時，由於在蝕刻過程中會產生六價態Cr，對環境和健康有害，因此現在越來越多的公司改用Mo/AL作為柵電極材料，這樣對鉬靶的需求也就越來越大。
表 鉬靶材應用領域
在鉬靶的應用中，鉬合金的研究也越來越多，為進一步提高純鉬在耐腐蝕性(變色)和密著性(膜的剝離)，在鉬中添加V、Nb、W、Ta，則會使比電阻、應力及耐蝕性等各種性能更好。在太陽能電池領域，低價和高效的統一始終是太陽能發展的目標，在經歷了以矽(單晶矽、多晶矽)為基礎的高成本太陽能電池的發展，低成本的薄膜太陽能電池5年後將成為太陽能電池市場的主力。在薄膜太陽能電池的膜層中，需要用到背電極材料，而鉬靶具有耐玻璃腐蝕、耐高溫和導電率好等優點，因此成為背電極材料的首選。
此外，鉬靶可以與其他靶材共濺射或者其他工藝條件下使用，在半導體佈線、醫療、機械加工和固體潤滑等領域應用廣泛。
鉬在鍍膜工業另一重要應用是噴鍍。鉬的噴鍍應用廣闊，在活塞環、軸承、擠塑設備、發動機缸體、渦輪機部件等高耐磨零件表面噴鍍鉬提高耐磨性。
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