二硅化钼涂层制备方法 - 等离子体喷涂法液（硅渗透和料浆烧结法）
以Mo和Si粉为原料，按照Mo∶Si=1∶2(原子比)在混料机中混合24h，将混好的粉体在氩气气氛下经高温自蔓延合成MoSi2粉末，作为喷涂用粉末之一(自蔓延合成粉末)；
将自蔓延高温合成的MoSi2粉末经造粒和真空热处理，获得喷涂用团聚体粉末。
MoSi2涂层的制备和组织分析：
1.以K403镍基合金为基体材料，其尺寸为准10 mm×15 mm，先对基体材料表面进行除油去锈、喷砂清洗处理；
2.采用APS-2000型大气等离子喷涂设备，分别以自蔓延合成粉末和团聚体粉末为喷涂原料，喷涂工艺参数为：功率50kW，喷枪喷嘴与样品的相对距离150 mm，氩气流量40 L/min，送粉速率18 g/min；
3.采用D8-Advance型X射线衍射仪检测MoSi2粉末和涂层的物相组成；
4.采用JSM-6380LV型扫描电镜观察涂层微观组织形貌。 自蔓延合成粉末制备的MoSi2涂层含有较多的Mo5Si3和Mo相，不利于涂层的抗氧化性能；
5.采用团聚体粉末为喷涂原料，可制备出含有少量的Mo5Si3相和Mo相且致密性较好的MoSi2涂层。（自蔓延合成MoSi2粉末性能不好，故在此不讨论）
制备得到的二硅化钼涂层性能：
1）对于团聚体粉末，MoSi2涂层以MoSi2为主相且只含有少量的Mo5Si3相和极少量的Mo相，其相组成较好。可见，采用团聚体粉末等离子喷涂制备MoSi2涂层，可明显减少涂层中Mo5Si3相和Mo相的产生，从而抗氧化性能大大提高。（团聚体粉末平均粒度较大，较小的表面积减小了其在喷涂过程中氧化，导致涂层只含有少量的Mo5Si3和Mo相。）
2）在相同的喷涂工艺参数下，粉末粒度过大，会导致颗粒熔化不良，使得涂层疏松多孔；若粉末粒度过小，颗粒虽能充分熔化，但其在喷嘴到样品的飞行过程中会发生严重氧化，导致涂层截面出现较多的浅白色区域，即产生较多的富钼相，不利于制备出物相组成较好的涂层；
另外，粉末粒度过小，也会造成送粉过程中的"堵粉"现象，造成送粉不连续而不利于涂层的制备。自蔓延合成和团聚体粉末颗粒在喷涂过程中均能充分熔化，使得涂层的截面和表面形貌较好。
注：
a.自蔓延合成粉末因其粒度过小，导致MoSi2涂层含有较多的Mo5Si3和Mo相，不利于涂层的抗氧化性能。
b.采用团聚体粉末为等离子喷涂原料,可制备出含有少量的Mo5Si3和Mo相且致密性较好的MoSi2涂层。
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