氧化钇添加量对ZHMR合金常温性能有什么影响呢？
通过下表来研究氧化钇添加量对ZHMR合金常温性能的影响。
编号 |
Mo | ZrH2 | HfH2 | C | Y2O3 |
1 |
97.8 |
0.5 |
1.5 |
0.19 |
0 |
2 |
97.3 |
0.5 |
1.5 |
0.19 |
0.5 |
3 |
97 |
0.5 |
1.5 |
0.19 |
0.8 |
4 |
96.8 |
0.5 |
1.5 |
0.19 |
1 |
5 |
96.6 |
0.5 |
1.5 |
0.19 |
1.2 |
6 |
96.3 |
0.5 |
1.5 |
0.19 |
1.5 |
随稀土氧化物氧化钇添加量的增加，室温时，ZHMR合金的抗拉强度从390MPa上升到550MPa，但氧化钇添加量超过1.2%时，抗拉强度有明显下降趋势，加稀土氧化物Y2O3的ZHMR合金的延伸率为(4~5)%，加工态的ZHMR4合金室沮抗拉强度为792MPa，延伸率为6.5%。
粉冶态的ZHMR合金在氧化钇添加量为（0.8~1.2）%写时室温强度达到最大值。常温时的抗压强度表明，当氧化钇添加量为0.8%时，抗压强度最大为3600MPa。常温维氏硬度结果表明，随着Y2O3添加量的增加，硬度缓慢上升，ZHMR6的硬度为2300MPa。在一定范围内，随氧化钇含量的增加引起抗拉强度的提高主要原因为晶粒的细化。
在ZHMR4合金中，钇的主要存在形式为Y2Hf2O7，另外少量以Y2O3，Zr0.02Y0.18O1.01存在。在烧结的初始阶段，HfH2钼粉顺粒表面的暇反应生成HfO2， Y2O3与HfO2生成△G里很低的Y2Hf2O7，这祥随着烧结过程的进行，它能有效地阻止粉末颗粒边界的移动，所以烧结坯的晶粒度比不加氧化钇时明显细化。
由Hall-Patch比公式可知晶粒越细，屈服强度越高。在基体中有HfC沉淀强化顺粒(直径0.01~01lμm)，在拉伸时，基体中的位错线与HfC发生作用时只能绕过颗粒，在HfC周围留下位错圈，这种作用即Orowan机制。这样HfC对位错的阻碍作用也表现为强度的提高。
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